隨（suí）著塑料（liào）製品日溢廣泛（fàn）的應用，如日化用品和飲料包裝容器等，外觀的需要往（wǎng）往要求塑料模具型腔的表（biǎo）麵達到鏡麵拋光（guāng）的程度。而生（shēng）產光學鏡片、鐳（léi）射（shè）唱片等模具（jù）對表麵粗糙度要求極高，因而對拋光性的（de）要求也極高。

拋光（guāng）不僅增加工件的美觀（guān），而且能夠改善材料表麵的耐腐（fǔ）蝕（shí）性、耐磨性，還可（kě）以使模具擁有其它優點，如（rú）使塑料製品易（yì）於脫模，減少（shǎo）生產注（zhù）塑周期等。因而拋（pāo）光在塑料（liào）模具製作過程中是很（hěn）重要的一道工序。

目前常用的拋光方法有以下（xià）幾種：

1.1 機械（xiè）拋光

機械拋光是*切削（xuē）、材（cái）料表麵（miàn）塑性變形去掉被拋光後的凸部（bù）而得到平滑麵的拋（pāo）光方法，一般（bān）使用油石條、羊毛輪、砂紙等，以手工（gōng）操（cāo）作為主，特殊零件如回轉（zhuǎn）體表麵，可使用轉（zhuǎn）台（tái）等輔助工具（jù），表麵質量 要（yào）求高的可采用超精研（yán）拋的（de）方法。

超精（jīng）研拋是采用特製（zhì）的磨具，在含有磨料的研拋液中（zhōng），緊壓在（zài）工件被加（jiā）工表麵上，作高速旋轉運動。利用該技術可以達到Ra0.008μm的表麵粗糙度，是各種拋光方法中最高的。光學鏡片模具常采用這種方法。

1.2 化學拋光

化學拋光是讓材料在化（huà）學介質中表麵微觀凸出（chū）的部分較凹部分優先溶解，從而得到平滑麵。這種方法的主要優點是不需複雜設備，可以拋光形狀複雜的工件，可以同時拋光很多工件，效率（lǜ）高。化學拋光的核（hé）心問題是拋光液（yè）的配製。化學拋光得到的表麵粗糙度一般為數10μm。

1.3 電解拋光

電解拋光基（jī）本原理與化（huà）學拋光相同，即*選擇性的溶解材料表麵微（wēi）小凸出（chū）部分，使表麵光滑。與化學拋光（guāng）相比，可以消（xiāo）除陰極反應的影響，效果（guǒ）較（jiào）好。電化學（xué）拋光過程分為兩步：

（1）宏觀整平（píng） 溶解產物向電（diàn）解液中擴散，材料表麵（miàn）幾何粗（cū）糙下降，Ra＞1μm。

（2）微光平（píng）整 陽極極化，表麵光亮（liàng）度提高，Ra＜1μm。

1.4 超聲（shēng）波拋光

將工件放入磨料懸（xuán）浮液中並一起置於超聲（shēng）波場中，依*超聲波的振蕩作用，使磨料（liào）在工件表麵磨削（xuē）拋光。超聲波加工宏觀（guān）力小，不會引起工件變（biàn）形，但工裝製作和安裝較困難。超聲波加工可以與化學或（huò）電化學方法結合。在溶（róng）液腐蝕、電解的（de）基礎上，再施加超聲波振動（dòng）攪拌溶液，使（shǐ）工件表麵溶解產物脫離，表麵（miàn）附近的腐蝕或電解質均勻（yún）；超聲波在液體中的（de）空化作用還能夠（gòu）抑製腐蝕過程，利於（yú）表（biǎo）麵（miàn）光亮化（huà）

1.5 流體拋光

流體拋光是依*高速（sù）流動的（de）液體及其攜帶的磨粒衝刷工件（jiàn）表麵達到（dào）拋光的目的。常用方法有：磨（mó）料噴射加工、液體噴射（shè）加工（gōng）、流體動力研磨等。流體動力研磨是由液壓驅動，使攜帶磨粒的液體（tǐ）介質高速往（wǎng）複流過工件表麵。介質（zhì）主要采用在較低壓力下流過性好的特殊化合物（聚合物狀（zhuàng）物質）並摻上磨料製成，磨料可采用碳化矽粉末。

1.6 磁研磨拋光

磁研磨拋（pāo）光是利用磁性磨料在磁場作用（yòng）下形成（chéng）磨料（liào）刷，對工件磨削加工。這種方法加工效率高，質量好，加工條件容易控製，工作條件好。采用合適的磨（mó）料，表麵粗糙度可以達到Ra0.1μm。

在塑料模具加工中所說的拋光與其他行業中所要求的表麵（miàn）拋光有很大的（de）不同，嚴格（gé）來說，模具的拋光應該稱為鏡麵加工。它不僅對拋（pāo）光（guāng）本身有很高的要（yào）求並且（qiě）對表麵平整度（dù）、光滑度以及幾何精確（què）度也有很高的標準。表麵拋光一般（bān）隻要求獲得光亮的表麵即可。

鏡麵加工（gōng）的標準分為四（sì）級：AO=Ra0.008μm，A1=Ra0.016μm，A3=Ra0.032μm，A4=Ra0.063μm，由於電解拋光、流體（tǐ）拋光等方法很難精確控製零件的幾何精確度，而化學拋光（guāng）、超聲波拋光、磁研磨拋光（guāng）等方法的表麵質量又（yòu）達不到要求，所以精密模具的鏡麵加工還是以機械拋光為主。

機械拋光（guāng）基本程序

要想獲得高質量的拋光效果，最重要（yào）的是要具備有高質量的（de）油石、砂紙和鑽石研磨膏等拋光工具和輔助品（pǐn）。而拋光程序的選擇（zé）取決於前期加工後的表麵狀況，如機械加工、電火花加工，磨加工等（děng）等。機械拋光（guāng）的一般過程如下：

1、粗拋

經銑、電火花、磨等工藝後的表麵可以選擇轉速在35 000—40 000 rpm的（de）旋轉表麵拋光機或超（chāo）聲波研磨機進行拋光。常用的方法有利用直（zhí）徑Φ3mm、WA # 400的輪子去除白（bái）色電火花層。然後是手工油石（shí）研磨，條狀油石加煤油作為潤（rùn）滑劑或（huò）冷（lěng）卻劑。一般的使用順序為#180 ~ #240 ~ #320 ~ #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000。許多模具製造商為了節約時間而（ér）選擇從#400開始。

2、半精拋

半精拋主要使用砂紙和（hé）煤（méi）油。砂紙的號數依次為：#400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000 ~ #1200 ~ #1500。實際上#1500砂紙隻用適（shì）於淬硬的模具鋼（52HRC以上），而（ér）不（bú）適用（yòng）於預硬鋼，因為這樣可能會導致預硬鋼（gāng）件表麵燒傷。

3、精拋（pāo）

精拋主要使用鑽石研磨膏。若用拋光布輪混（hún）合鑽石研磨粉或研磨膏進行（háng）研磨的話，則通常的研磨順序是9μm（#1800）~ 6μm（#3000）~3μm（#8000）。9μm的（de）鑽石研磨膏和（hé）拋光布輪可用（yòng）來去除（chú）#1200和（hé）#1500號砂紙留下的發狀磨痕（hén）。接著用粘（zhān）氈和鑽石研磨膏進行拋光，順序為1μm（#14000）~ 1/2μm（#60000）~1/4μm（#100000）。

精度要（yào）求在1μm以上（包括1μm）的拋（pāo）光工（gōng）藝（yì）在模具加工車間中一個清潔的拋光室內即可進行。若進行更加精密的（de）拋光則必需一個絕對潔淨的空（kōng）間。灰塵、煙霧，頭皮屑和（hé）口水沫都有可能報（bào）廢數個小時工作後（hòu）得到的高精密拋光表麵。

機械拋光中要注意的問題

用砂紙拋（pāo）光應（yīng）注意以下幾（jǐ）點：

1、用砂紙拋光需要利用軟的木棒或竹棒。在拋光圓麵或球麵時，使用軟木棒可更好的配合圓麵和球麵的弧度。而（ér）較（jiào）硬的木條像櫻桃木，則更適用於平（píng）整表麵的拋光。修整木條的末端使其能與鋼件表麵形狀保持吻合，這樣可以避免木（mù）條（或竹條）的銳角接觸（chù）鋼件表麵而造成較深的（de）劃痕。

2、當換用不同型號的砂紙時，拋（pāo）光方（fāng）向應變換（huàn）45°~ 90°，這樣前一種型號砂紙拋光後（hòu）留下的條（tiáo）紋陰影即可（kě）分（fèn）辨出來。在換不同型號砂紙之前，必須用（yòng）100％純（chún）棉花沾取酒精之類的清潔液對拋光（guāng）表麵進行仔（zǎi）細的擦（cā）拭，因為一顆很小的（de）沙礫留在表麵都會（huì）毀壞接下去的整個拋光工作。從砂紙拋光（guāng）換成鑽石研磨膏拋光時，這個清潔過程同樣重要。在拋光繼續進行（háng）之前，所（suǒ）有顆粒和（hé）煤油都必須被完全（quán）清潔幹淨（jìng）。

3、為了避免擦傷和燒傷工件表麵（miàn），在用#1200和#1500砂紙進行拋光時必（bì）須特別（bié）小心。因而有必要加載一個輕載荷以及采用兩步拋光法對表麵進行拋光。用每一（yī）種（zhǒng）型號的砂紙進行拋光時都應沿兩個不同方向（xiàng）進行兩次拋光（guāng），兩（liǎng）個方向之間每次轉動45°~ 90°。

鑽石研磨拋光應注意以下幾點：

1、這種拋光（guāng）必須盡量在較輕的壓力（lì）下進行特別是拋（pāo）光預硬鋼件和用（yòng）細研磨膏拋（pāo）光時。在用（yòng）#8000研磨膏拋光時，常用載荷為100~200g/cm2，但要保持此載荷的（de）精準度（dù）很難做到（dào）。

為了更（gèng）容易做到（dào）這一點，可以在木條上做一個薄且窄的手柄，比如加一銅片；或者在竹（zhú）條上切去一部（bù）分而使（shǐ）其更加柔軟。這樣（yàng）可以幫助控製拋光壓力，以確保模具表麵壓力不會過高。

2、當使用鑽石研磨拋光時，不僅是（shì）工作表麵要求潔淨，工作者的雙（shuāng）手也（yě）必須仔細清潔。

3、每次拋（pāo）光時間不應過長，時間越（yuè）短，效果越好（hǎo）。如果拋光過程進行得過長將會造成“橘皮”和“點蝕”。

4、為獲得高質量的拋光效果，容易發熱的拋光方法和工具都應避免。比（bǐ）如：拋光輪拋（pāo）光，拋光輪產生的熱量會很容易造成（chéng）“橘皮”。

5、當拋光過程停止時，保證工件表麵潔淨和（hé）仔細去除所有研磨劑和潤（rùn）滑劑非常重要，隨後應在表麵噴淋一層模具（jù）防鏽塗層。

由於機（jī）械拋光主（zhǔ）要還是*人工完成，所以拋光技術目前還是影響拋光質量的主要原因。除此之外（wài），還與模具材料、拋光（guāng）前的表麵狀況、熱處理工藝等有關。優（yōu）質的鋼材是獲得良好拋光質量的前提條件（jiàn），如果鋼材表麵硬度不均或（huò）特性上有（yǒu）差異（yì），往（wǎng）往會產生拋光困難。鋼材中的（de）各種夾雜物和（hé）氣孔都不利於拋光。

不同硬度對拋（pāo）光工藝的（de）影響

硬度增高（gāo）使研磨的困難增大，但拋光後（hòu）的粗糙度減（jiǎn）小。由於硬度的增高，要達（dá）到較低的粗糙（cāo）度所需的拋光時間相應增長。同時硬度增高，拋光過度的可能性相應減少。

工件表（biǎo）麵狀況對拋光工（gōng）藝的影響

鋼材在切削機械加工的破（pò）碎過程中，表（biǎo）層會因熱量、內應力或其他因素而損壞，切削參數不當會影響拋光效果。電火（huǒ）花加工後的表麵比普通機械加工或熱處理後的表麵（miàn）更難研磨，因（yīn）此電火花加工結束（shù）前應采用精規準電火花修整，否（fǒu）則表麵會形成硬化薄（báo）層。

如果電火花精修規準（zhǔn）選擇不當，熱影響層的深度最（zuì）大可達（dá）0.4mm。硬化薄層（céng）的硬度比基體硬度高，必須去除。因此最好增加一道粗磨加工，徹底清除損壞表麵層，構成（chéng）一片平均粗糙的金屬麵，為拋光加工提供（gòng）一個良好基礎（chǔ）。

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